هزینه های جهانی تجهیزات نیمه هادی وارد یک چرخه صعودی شده است. استفاده از فناوری‌های جدید و محصولات جدید مانند 5G، اینترنت اشیا، داده‌های بزرگ، هوش مصنوعی و الکترونیک خودرو، تقاضای زیادی در بازار نیمه‌رساناها به همراه خواهد داشت و صنعت وارد دور جدیدی از چرخه رو به رشد خواهد شد. تولید ویفر، رشد اپیتاکسیال، بسته بندی و ادغام در انتهای کل زنجیره صنعت، و فرآیند و کیفیت محصول آن به طور مستقیم با کاربردهای صنایع پایین دستی مرتبط است. ریگاکو دارای یک سیستم کامل از تجهیزات، مانندپراش اشعه ایکس(XRD)، فلورسانس اشعه ایکس (XRF)، بازتاب سنج اشعه ایکس (XRR) و توپوگرافی اشعه ایکس (XRT)، که می تواند در کل فرآیند از تولید ویفر تا مدارهای مجتمع اعمال شود و می تواند تعدادی از پارامترهای کلیدی فرآیند را اندازه گیری غیرمخرب کند: مانند ضخامت ، ترکیب، زبری، چگالی، تخلخل، و همچنینساختار کریستالیو نقص ساختار کریستالی.

1. در تولید ویفر تعداد و نوع عیوب در مراحل بعدی تاثیر زیادی خواهد داشت. تصویربرداری توپولوژیکی اشعه ایکس (XRT) می تواند به وضوح نقص ها و دررفتگی ها را روی سطح ویفر مشاهده کند (شکل 1). به تولیدکنندگان برای بهبود فرآیند و کنترل کیفیت کمک کنید.

شکل 1: تصویربرداری توپولوژی انتقال یک ویفر 4H-مانند

2. یکنواختی ویفر یا فیلم اپیتاکسیال را می توان با اندازه گیری کردXRDعملکرد منحنی نوسان، و ماژول نرم افزار تجسم ارائه شده توسط ریگاکو همچنین می تواند تصاویر توزیع دو بعدی را ارائه دهد که می تواند به طور مستقیم کیفیت سطح را ارزیابی کند (شکل 2).

شکل 2: تصویر دو بعدی از فیلم AlN در حال رشد روی بستر یاقوت کبود

3. ضخامت فیلم را می توان با یک منحنی نوسانی با وضوح بالا اندازه گیری کرد که غیر مخرب و بسیار دقیق است (شکل 3).

شکل 3: منحنی نوسانی با وضوح بالا برای اندازه‌گیری ضخامت لایه‌های GaN/InxGa(1-x)N

4. ممکن است نوعی عدم تطابق شبکه در طول رشد ویفر یا فیلم اپیتاکسیال وجود داشته باشد که بر کیفیت فیلم تأثیر می گذارد. با استفاده از آشکارسازها و راه حل های ویژه ریگاکو، آزمایش فضای متقابل را می توان در SmartLab انجام داد، جایی که شبکه ناهماهنگی دارد وکریستالوگرافیثابت ها را می توان بسیار شهودی دید.

شکل 4: طیف فضایی متقابل با وضوح بالا GaN105